Материалы по тегу: литография | itzine.ru | Страница 1 из 1

Tag: литография

Литограф с множеством кранов и платформой

Российский литограф обещает сократить выпуск чипов с недель до минут

Китайский DUV-сканер от ASML. Машина для литографии

Китайские DUV-сканеры отстают от ASML на несколько поколений, но уже пошли в серию

Работники в защитных костюмах у литографов с названиями устройств

Китай запустил серийные литографы и целится в поставки SMIC, Hua Hong и CXMT

Литографическая система ZEISS для производства чипов

Zeiss расширяет выпуск оптики для 2-нанометровых чипов

Литограф для 150 нм чипов без масок Россия

Россия создала литограф для 150-нм чипов без масок

Модель диаграммы Terafab и график производства EUV индустрии

ASML почти распродала EUV на 2027 год из-за завода Terafab Илона Маска

Таблица пазлов для сборки чипов Fab2 и элементов

Fab2 хочет собирать заводы для выпуска чипов как конструктор

Крупный научный лабораторный комплекс с техникой ASML

Нидерланды попросили США не запрещать ASML поставки в Китай

График логарифма количества компонентов в полупроводниковой промышленности по годам для закона Мура

Полупроводниковая отрасль ищет замену закону Мура

Работники возле грузовика для ASML и криогенного модуля

ASML заявила об отсутствии EUV-машин для чипов в Китае

Камера струйной печати Inkjet принтер устройство

Китайская Prinano заявила о выпуске фотонных чипов без DUV

Крупный промышленный аппарат TSMC с кабелями и рабочими

TSMC отложила запуск High-NA EUV в производство из-за цены

Выставочный зал Huawei с логотипом компании

Huawei пообещала техпроцесс уровня 1,4 нм к 2031 году

Литограф для плат МАИ с открытым крышкой и дисплеем

МАИ собрал литограф для плат за 500 тыс. рублей

Быстрая зелёная рекламная прозрачная ткань TSMC

TSMC отложила покупку high-NA EUV машин ASML до 2029 года

Чип Huawei Kirin на печатной плате с флагами США и Китая, акцент на разработку для 2 нм без EUV

Huawei разрабатывает путь к производству чипов уровня 2 нм без EUV-литографии