Россия создала литограф для 150-нм чипов без масок

В России сделали установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Разработкой занимался Зеленоградский нанотехнологический центр, а два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые должны занять примерно четыре месяца.

Главная особенность здесь простая: установка работает без масок. То есть рисунок микросхемы можно наносить прямо на кремниевые и другие подложки, а ещё делать фотошаблоны без отдельного масочного цикла.

Это не про массовые микропроцессоры уровня TSMC или Intel. Скорее про прототипы, исследования и небольшие серии. Электронно-лучевая литография работает медленнее фотолитографии, зато не требует отдельной маски под каждый проект. Для НИОКР и специализированной электроники это бывает полезнее, чем лишняя скорость.

Характеристики литографа на 150 нм

Если смотреть на цифры, система рассчитана на нормы 150 нм. Для передовой микроэлектроники это уже давно не верх технологий, но для лабораторных и прикладных задач — вполне рабочий уровень. Тут речь идёт об опытных образцах, отработке техпроцессов и мелких партиях чипов.

Отдельно разработчики делают ставку на безмасковый режим. В такой схеме не нужно каждый раз изготавливать фотошаблоны под новую топологию, и путь от проекта до тестовой партии становится короче. Для тех, кому нужны не тысячи одинаковых кристаллов, а десятки или сотни изделий с особыми параметрами, это может оказаться важнее, чем сама скорость.

• Проектные нормы: 150 нм.
• Тип технологии: электронно-лучевая литография.
• Режим работы: без масок.
• Статус: два опытных образца проходят испытания.
• Срок испытаний: около четырёх месяцев.

ЗНТЦ и новые установки для чипов

У ЗНТЦ это не первая работа в сторону закрытия критичных звеньев производственной цепочки. Ранее центр уже показал отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм, а теперь параллельно делает и оборудование с нормами 130 нм. Видно, что ставка идёт не на один универсальный станок, а на линейку установок под разные задачи и разный уровень сложности.

На мировом фоне 150 нм выглядят почти старомодно: крупные производители давно ушли далеко вперёд, а самые массовые чипы делают на куда более тонких нормах. Но для России своё оборудование такого класса всё равно нужно. Импортные решения в этой нише тоже могут упереться в ограничения, а университетам, НИИ и предприятиям часто нужен не рекорд, а просто доступ к самому технологическому процессу.

Есть и ещё один фон — деньги. Ранее сообщалось, что разработчик первой советской атомной бомбы получил почти миллиард рублей на создание современных установок для чипов. И на этом фоне новые проекты уже выглядят не одиночными попытками, а частью более широкой сборки собственной базы для микроэлектроники.

Если испытания пройдут нормально, дальше будет доводка установки и её запуск в прикладные проекты. Тогда станет понятнее, может ли российский рынок закрывать хотя бы часть потребностей в оборудовании для прототипирования и мелкосерийного выпуска без опоры на импорт.