Российские учёные запатентовали очистку нанопорошка для производства чипов
Исследователи Нижегородского государственного университета имени Лобачевского разработали способ глубокой очистки нанопорошка аморфного диоксида кремния. Полученную из него полировальную суспензию передали промышленному партнёру на испытания.
Технология позволяет контролировать размер, форму и однородность частиц, а также уменьшать количество примесей. Высокочистые наноматериалы применяют при химико-механической полировке полупроводниковых пластин. Свойства частиц влияют на качество обработки поверхности и характеристики готовых электронных компонентов.
Патент на способ очистки исследователи лаборатории инженерной химии НИИ химии университета получили в октябре 2026 года. Работа над проектом идёт с 2024 года в рамках стратегического проекта «Новые материалы для микроэлектроники» программы «Приоритет-2030». Учёные также подготовили технологическую линию и регламент получения материала.
По словам руководителя исследования Ксении Отвагиной, подход помогает управлять свойствами наночастиц и получать материал с заданными характеристиками. Сейчас команда проверяет стабильность технологии при масштабировании и проводит испытания с промышленным партнёром. Следующий этап проекта — апробация суспензии и подтверждение возможности её масштабного производства.
Разработка должна снизить зависимость российской микроэлектроники от зарубежных поставщиков высокочистых материалов. Отечественные аналоги должны обеспечивать качество и стабильность характеристик, сопоставимые с импортными продуктами.
