Россия и Белоруссия изготовили литограф для выпуска 130-нм чипов
Россия и Белоруссия изготовили опытный образец литографической установки для производства микросхем по техпроцессу 130 нм. Об этом 28 сентября на пленарной сессии форума «Микроэлектроника» сообщил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров.
Для установки разработали собственный эксимерный лазер. По словам Мантурова, это позволило России войти в число стран, располагающих такой технологией. Параллельно страна развивает электронно-лучевую литографию, которую, в частности, применяют для изготовления фотошаблонов.
В Зеленограде завершается создание научно-технологического центра. Там планируют наладить выпуск фотошаблонов и постепенно перейти к освоению более современных топологических норм, вплоть до 28 нм. В России также развивают производство отечественных материалов и химических продуктов для микроэлектроники: за последние три года освоили около 60 критически важных позиций.
