Россия и Белоруссия делают оборудование для 65-нм чипов без ASML

Россия и Белоруссия начинают совместную разработку оборудования для выпуска микросхем на техпроцессах 90 и 65 нм. Это не одна отдельная машина, а целая линейка установок для фотошаблонов и фотолитографии — без них серийное производство чипов не собрать. За проект отвечает, в том числе, белорусский «Планар», а российская сторона выступает заказчиком и финансирует работу.

На фоне разговоров про 3 нм, 2 нм и дорогие EUV-сканеры ASML ставка выглядит совсем другой. Здесь берут зрелые нормы. Они не подходят для топовых смартфонных процессоров, зато годятся для промышленной электроники, силовой техники, автомобильных блоков, датчиков и части телеком-оборудования. Обычно именно с таких сегментов и начинается локальное производство.

По данным, на которые ссылается CNews, программа охватывает почти весь цикл изготовления фотошаблонов. Это стеклянные пластины с рисунком будущей схемы, через которые потом и переносится изображение на кремниевую пластину. В перечне работ сразу несколько установок: генератор изображений для техпроцессов 90—65 нм, контроль топологии, перенос меток совмещения, проверка координат элементов, лазерная ретушь, контроль дефектности и проверка полутоновых маскирующих покрытий.

Сроки уже названы. Большую часть установок планируют довести до готовности в 2026 году, а последний элемент комплекса — в 2027-м. Если график не сдвинется, получится закрыть не одну точку в цепочке, а почти весь маршрут вокруг фотошаблона.

Ретушь и контроль дефектов здесь особенно важны. На таких нормах даже мелкая ошибка в шаблоне может испортить партию, а переделка стоит и времени, и денег. Лазерная ретушь нужна как раз для исправления небольших дефектов без полной переделки шаблона, а системы контроля должны ловить сбои до того, как они уйдут в серию.

Планар и роль России в оборудовании для 65-нм чипов

Белорусский «Планар» выбрали не случайно. По оценке партнера Strategy Partners Романа Тиняева, у этого предприятия сохранилась инженерная школа, которая позволяет браться за такой класс оборудования. В советской и постсоветской традиции «Планар» давно связан с микроэлектронным машиностроением, а для России это еще и возможность опереться на готовую базу, а не поднимать ее с нуля.

Российская роль в этой схеме довольно понятная: заказ, интеграция и деньги. Все это укладывается в логику государственной программы развития электронного машиностроения, которая к 2030 году должна заменить около 70% импортного оборудования и материалов для микроэлектроники. На нее заложено более 240 млрд рублей, и на таком фоне локальные проекты уже не выглядят чем-то случайным.

65-нм уровень сам по себе не выглядит пиком прогресса, но в отрасли он по-прежнему нужен. На таких нормах работают чипы для управления, питания, связи и промышленной автоматизации, где важнее стабильные поставки и цена, чем максимальная плотность транзисторов. Китай давно делает ставку на этот сегмент, а мировые ограничения вокруг передовых литографических машин только подогрели интерес к зрелым техпроцессам у тех, кто хочет снизить зависимость от импорта.

Для России и Белоруссии главный вопрос теперь не в самом анонсе, а в том, получится ли довести оборудование до промышленной серии. Ответ будет виден в 2026-м и 2027-м годах, когда станет понятно, сколько установок реально прошло испытания и насколько они встроились в производственный цикл. Если проект сработает, у двух стран появится собственный набор инструментов для узкого, но критически важного участка микроэлектроники.