Исследователи Нижегородского государственного университета имени Лобачевского разработали способ глубокой очистки нанопорошка аморфного диоксида кремния. Полученную из него полировальную суспензию передали промышленному партнёру на испытания.
Технология позволяет контролировать размер, форму и однородность частиц, а также уменьшать количество примесей. Высокочистые наноматериалы применяют при химико-механической полировке полупроводниковых пластин. Свойства частиц влияют на качество обработки поверхности и характеристики готовых электронных компонентов.
Патент на способ очистки исследователи лаборатории инженерной химии НИИ химии университета получили в октябре 2026 года. Работа над проектом идёт с 2024 года в рамках стратегического проекта «Новые материалы для микроэлектроники» программы «Приоритет-2030». Учёные также подготовили технологическую линию и регламент получения материала.
По словам руководителя исследования Ксении Отвагиной, подход помогает управлять свойствами наночастиц и получать материал с заданными характеристиками. Сейчас команда проверяет стабильность технологии при масштабировании и проводит испытания с промышленным партнёром. Следующий этап проекта — апробация суспензии и подтверждение возможности её масштабного производства.
Разработка должна снизить зависимость российской микроэлектроники от зарубежных поставщиков высокочистых материалов. Отечественные аналоги должны обеспечивать качество и стабильность характеристик, сопоставимые с импортными продуктами.