В России сделали установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Разработкой занимался Зеленоградский нанотехнологический центр, а два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые должны занять примерно четыре месяца.
Главная особенность здесь простая: установка работает без масок. То есть рисунок микросхемы можно наносить прямо на кремниевые и другие подложки, а ещё делать фотошаблоны без отдельного масочного цикла.
Это не про массовые микропроцессоры уровня TSMC или Intel. Скорее про прототипы, исследования и небольшие серии. Электронно-лучевая литография работает медленнее фотолитографии, зато не требует отдельной маски под каждый проект. Для НИОКР и специализированной электроники это бывает полезнее, чем лишняя скорость.
Если смотреть на цифры, система рассчитана на нормы 150 нм. Для передовой микроэлектроники это уже давно не верх технологий, но для лабораторных и прикладных задач — вполне рабочий уровень. Тут речь идёт об опытных образцах, отработке техпроцессов и мелких партиях чипов.
Отдельно разработчики делают ставку на безмасковый режим. В такой схеме не нужно каждый раз изготавливать фотошаблоны под новую топологию, и путь от проекта до тестовой партии становится короче. Для тех, кому нужны не тысячи одинаковых кристаллов, а десятки или сотни изделий с особыми параметрами, это может оказаться важнее, чем сама скорость.
У ЗНТЦ это не первая работа в сторону закрытия критичных звеньев производственной цепочки. Ранее центр уже показал отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм, а теперь параллельно делает и оборудование с нормами 130 нм. Видно, что ставка идёт не на один универсальный станок, а на линейку установок под разные задачи и разный уровень сложности.
На мировом фоне 150 нм выглядят почти старомодно: крупные производители давно ушли далеко вперёд, а самые массовые чипы делают на куда более тонких нормах. Но для России своё оборудование такого класса всё равно нужно. Импортные решения в этой нише тоже могут упереться в ограничения, а университетам, НИИ и предприятиям часто нужен не рекорд, а просто доступ к самому технологическому процессу.
Есть и ещё один фон — деньги. Ранее сообщалось, что разработчик первой советской атомной бомбы получил почти миллиард рублей на создание современных установок для чипов. И на этом фоне новые проекты уже выглядят не одиночными попытками, а частью более широкой сборки собственной базы для микроэлектроники.
Если испытания пройдут нормально, дальше будет доводка установки и её запуск в прикладные проекты. Тогда станет понятнее, может ли российский рынок закрывать хотя бы часть потребностей в оборудовании для прототипирования и мелкосерийного выпуска без опоры на импорт.