Китайские производители оборудования для литографии DUV вышли на серийный выпуск, но до уровня ASML им ещё далеко. По данным источников, речь идёт об иммерсионных системах, они нужны для чипов старше EUV-узла, зато остаются важными для массового производства 28-нм и близких техпроцессов.
Reuters назвал и производителя, который, как утверждается, уже запустил массовую сборку такого оборудования, — Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. В 2026 году компания, по этим данным, соберёт только пять литографических систем, а в следующем — около 20. Для рынка это немного. Но на фоне жёстких ограничений на поставки западного оборудования в Китай и постоянных попыток собрать у себя ключевые узлы цепочки даже такие объёмы выглядят заметно.
По слухам, первыми покупателями могут стать SMIC, HuaHong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Это те компании, которых чаще всего и называют в контексте китайских закупок литографического оборудования, если речь идёт хотя бы о частичной замене импорта. На этом фоне акции ASML в начале недели просели более чем на 13%, а бумаги Infineon Technologies потеряли 15,5%. Рынок реагирует на такие новости нервно, и это хорошо видно.
Китайская линейка DUV-систем не выросла на пустом месте. За ней стоят инженеры из Shanghai Yuliangsheng, SMEE и связанных с ними команд, которые в последние годы работали над собственными сканерами, пока SMEE смещала фокус в сторону EUV-оборудования. На рынке давно говорят, что эти проекты опираются на общий кадровый и технологический задел, а не идут полностью по отдельности.
Но даже если всё сложится удачно, это всё равно догоняющая история. По оценкам западных экспертов, китайские системы для выпуска 28-нм чипов отстают от зарубежных аналогов примерно на четыре поколения, а по надёжности и производительности проигрывают особенно заметно. У той же SSA800, которую связывают с локальными разработками, заявлена производительность около 150 кремниевых пластин в час, но до целевого выхода годной продукции в 90-95% ей ещё очень далеко.
Разрыв объясняется не только самим сканером. Источники лазерного излучения, оптика, зеркала и управляющее ПО по-прежнему приходится ввозить, а значит зависимость от внешних поставщиков сохраняется. Тут ASML остаётся ориентиром не только по классу техники, но и по масштабу производства: нидерландская компания десятилетиями собирала вокруг себя экосистему поставщиков, а Китай сейчас пытается собрать что-то похожее по частям, под давлением санкций.
Для отрасли важен сам сигнал. Даже пять машин в 2026 году и около 20 годом позже могут помочь местным фабрикам чуть снизить зависимость от импорта там, где EUV пока недоступен, а DUV остаётся рабочей лошадкой. Для Китая это особенно чувствительно на фоне больших вложений в собственную полупроводниковую цепочку и давления со стороны США и союзников на поставки оборудования.
И всё же история с Aishengna показывает, что рынок пока живёт не только фактами, но и ожиданиями. Одни видят в этом начало более широкой локализации литографии, другие считают это очередным промежуточным этапом, где китайские разработчики ещё долго будут догонять ASML по качеству, ресурсу и стабильности. Ответ дадут не слухи, а реальные поставки и то, насколько быстро китайские фабрики смогут поднять на них серийный выпуск чипов.